Dielektrika
Dielektrische Beschichtungen werden in der Optik, der Halbleitertechnik und dutzenden anderen Industriezweigen eingesetzt, und Filmetrics stellt Schichtdickenmessgeräte her, die praktisch sämtliche dieser Beschichtungen messen können. Hier sind einige der Dielektrika, die am Häufigsten eingesetzt werden:
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SiO2 – Siliziumdioxid ist eines der am einfachsten messbaren Materialien, primär weil es fast über den kompletten Wellenlängenbereich nicht-absorbierend ist (k=0) und ist im Normalfall komplett stöchiometrisch (d.h. das Verhältnis Si:O beträgt sehr genau 1:2). Thermisch gewachsenes SiO2 ist besonders vorhersagbar und wird daher besonders häufig für Schichtdicke- und Brechungsindexstandards eingesetzt. Filmetrics bietet Schichtdickenmessgeräte an, die SiO2-Schichten im Bereich von 3nm bis 1mm Dicke messen können.
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Si3N4 – Die Schichtdickenmessung von Siliziumnitridbeschichtungen stellt eine weitaus größere Herausforderung dar als die anderer Dielektrika, da das Si:N-Verhältnis der Beschichtungen nur selten bei genau 3:4 liegt und daher im Normalfall der Brechungsindex zeitgleich mit der Schichtdicke gemessen werden muss. Die Sache verkompliziert sich dadurch, dass oft Sauerstoff unvorhergesehenerweise in die Schicht eindringt, und so Siliziumoxynitrid entsteht. Glücklicherweise ermöglichen unsere Schichtdickenmessgeräte die Charakterisierung von Si3N4-Schichten innerhalb von Sekunden, und das mit nur einem einzigen Mausklick!
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Filmetrics bietet Ihnen kostenlose Testmessungen an – Ergebnisse sind für gewöhnlich innerhalb von 1-2 Tagen verfügbar.
Anwendungsbeispiel
Siliziumnitride werden häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt, sei es als Dielektrika, Passivierungsschichten oder für Masken. In diesem Beispiel messen wir mit unserem F20-UVX-System erfolgreich die Schichtdicke, den Brechungsindex und den Absorptionskoeffizienten eines dünnen SixNy-Films auf Si. Ein interessanter Aspekt ist, dass die optischen Eigenschaften von SixNy-Schichten mit den stöchiometrischen Eigenschaften der Schichten korrelieren. Indem wir das F20-UVX mit dem von Filmetrics speziell für Siliziumnitride entwickelten Dispersionsmodel kombinieren, können wir einfach die Schichtdicke und die optischen Eigenschaften der SixNy-Filme bestimmen, unabhängig davon ob diese siliziumreich, arm an Silizium, oder stöchiometrisch sind.Messaufbau:
Benutztes Rezept:
Messergebnis:
