Amorphes & Polysilizium
Elementares Silizium kann sowohl in amorphen als auch kristallinen Formen vorliegen. Teilkristallines Silizium liegt zwischen beiden Extremen und wird häufig als polykristallines Silizium oder kürzer als Polysilizium bezeichnet.
Die optischen Konstanten (n und k) von amorphem Si und Polysilizium sind abhängig von der Abscheidungsmethode und müssen als Voraussetzung einer korrekten Schichtdickenmessung bestimmt werden. Ebenso müssen die Rauigkeit und der Grad der Kristallisation in der Siliziumschicht berücksichtigt werden und zusammen mit der Schichtdicke bestimmt werden.
Filmetrics Schichtdickenmessgeräte verfügen über ausgefeilte Messroutinen, die alle notwendigen Parameter der Siliziumschicht simultan messen und darstellen, und das alles mit einem einzigen Mausklick.
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Filmetrics bietet Ihnen kostenlose Testmessungen an Testmessungen an – Ergebnisse liegen typischerweise innerhalb von 1 – 2 Tagen vor.
Anwendungsbeispiel
Polysilizium wird vielfältig für die Herstellung siliziumbasierter elektronischer Geräte eingesetzt. Die Effizienz dieser Geräte hängt von den optischen und strukturellen Eigenschaften dieser Beschichtungen ab. Diese Eigenschaften wiederum hängen stark von den Prozessbedingungen ab und es ist daher wichtig, sie genau zu messen. Die Schichtdicke und optischen Eigenschaften werden auf Wafern gemessen, welche eine Zwischenschicht aus Siliziumdioxid haben, um den optischen Kontrast zwischen dem Siliziumsubstrat und der Polysiliziumschicht zu vergrößern. Die Schichtdicke und die optischen Eigenschaften der Polysiliziumschicht sowie die Schichtdicke der SiO2-Zwischenschicht können einfach mit dem Filmetrics F20 gemessen werden. Das Bruggemann-Model wurde verwendet, um die optischen Eigenschaften des Polysilizium zu bestimmen.Messaufbau:
Benutztes Rezept:
Messergebnis:
